鈦靶材供貨廠家:鈦靶材在真空鍍膜行業中的應用

時間:2020-09-09 02:09:24 | 來源:硬汉视频苹果下载鈦材

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濺鍍設備幾乎都使用強力磁鐵將電子成螺旋狀運動以加速靶材周圍的氬氣離子化,造成靶與氬氣離子間的撞擊機率增加,提高濺鍍速率。一般金屬鍍膜大都采用直流濺鍍,而不導電的陶磁材料則使用RF交流濺鍍,基本的原理是在真空中利用輝光放電(glow discharge)將氬氣(Ar)離子撞擊靶材(target)表麵,電漿中的陽離子會加速衝向作為被濺鍍材的負電極表麵,這個衝擊將使靶材的物質飛出而沉積在基板上形成薄膜。


鈦靶材供貨廠家


      濺射進行鍍膜的幾個特點:


1、金屬、合金或絕緣物均可做成薄膜材料。


2、在適當的設定條件下可將多元複雜的靶材製作出同一組成的薄膜。


3、利用放電氣氛中加入氧或其它的活性氣體,可以製作靶材物質與氣體分子的混合物或化合物。


4、靶材輸入電流及濺射時間可以控製,容易得到高精度的膜厚。


5、較其它製程利於生產大麵積的均一薄膜。


6、濺射粒子幾不受重力影響,鈦靶材與基板位置可自由安排。


7、基板與膜的附著強度是一般蒸鍍膜的10倍以上,且由於濺射粒子帶有高能量,在成膜麵會繼續表麵擴散而得到硬且致密的薄膜,同時此高能量使基板隻要較低的溫度即可得到結晶膜。


8、薄膜形成初期成核密度高,可生產10nm以下的極薄連續膜。


9、鈦靶材的壽命長,可長時間自動化連續生產。


10、鈦靶材可製作成各種形狀,配合機台的特殊設計做更好的控製及最有效率。



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